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1.00元濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子12月10日 -
1.00元濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子10月28日
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1.00元高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..09月18日
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高純鉬靶是AMOLED面板生產(chǎn)中的關(guān)鍵原材料之一，該公司的新產(chǎn)品是適用于TFT-LCD/AMOLED的超寬高純高密鉬平面濺射靶材，主要應用于G2.5-G6代TFT-LCD/AMOLED，填補了國內(nèi)寬幅鉬靶(1800mm)空白，..08月27日
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產(chǎn)品名稱：鉬靶材 純度: 99.95% 密度：≥10.2g/cm3 尺寸范圍：--- (可根據(jù)客戶需求定制） 外 觀：在顯微鏡下觀察，管子內(nèi)外表面呈現(xiàn)出均勻的金屬光澤，無氧化、氫化變色、劃傷、變形、毛08月17日
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1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度：99.99% 分子式：Al2O3 分子量：101.96 CAS號：1344-28-1 密度：4 熔點：2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn),采用電子束熔煉,區(qū)間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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面議主要技術(shù)參數(shù) 產(chǎn)品名稱 5KV/2A/10KW二極濺射鍍膜電源 WT10-5K 產(chǎn)品型號 WT10 產(chǎn)品品牌 躍遷 電源類型 全數(shù)控智能電源 輸入電壓： AC380V±10% 輸出 功率:..08月19日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發(fā)鍍膜顆粒材料，鎳釩合金旋轉(zhuǎn)靶材 英文名稱：Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target，元素比例：Ni93% V7% 專注于生產(chǎn)具有最高密度和最小平均晶..03月18日
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400.00元鐵的顏色是金屬灰色，具有延展性、鐵磁性，熔點為1535°C，密度為7.86g/cm3，廣泛純在于大量的產(chǎn)品中，包括工具、汽車和機器等，鐵還具有生物重要性，因為它負責血液中的氧運輸，它在真空下蒸..12月01日
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800.00元高純鎂靶材 金屬鎂顆粒 Mg Target 金屬濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn),采用電子束熔煉,區(qū)間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學提純等工藝,高純金屬純度達到99.99%-99.907月31日
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蘇州南京廣東深圳北京高純鎳濺射鍍膜靶材蒸發(fā)鍍膜顆粒材料鎳旋轉(zhuǎn)靶材 英文名稱：Nickel Sputtering Target 公司生產(chǎn)的常見靶材如下： 金屬濺射鍍膜靶材: 鋁靶材Al，銻靶材Sb，鉍靶材Bi，..03月18日
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945.00元碳化鎢靶材是一種由高純鎢和碳為原料構(gòu)成的靶材，顏色為黑色六方，有金屬光澤，硬度與金剛石相近，為電、熱的良好導體，碳化鎢不溶于水、鹽酸和硫酸，易溶于硝酸-氫氟酸的混合酸中，純的碳化..12月17日
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1300.00元鉻是銀白色有光澤的金屬，純鉻有延展性，含雜質(zhì)的鉻硬而脆。密度7.20g/cm3?？扇苡趶妷A溶液。鉻具有很高的耐腐蝕性，在空氣中，即便是在赤熱的狀態(tài)下，氧化也很慢。不溶于水。鍍在金屬上可起..12月17日
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黃頁88網(wǎng)提供2025最新濺射鍍膜靶材價格行情，提供優(yōu)質(zhì)及時的濺射鍍膜靶材圖片、多少錢等信息。批發(fā)市場價格表的產(chǎn)品報價來源于共2家濺射鍍膜靶材批發(fā)廠家/公司提供的57032條信息匯總。
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