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真空鍍膜機生產(chǎn)線設(shè)備回收 |
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真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。真空鍍膜機主要應(yīng)用范圍很廣。低真空表“2”內(nèi)指針順時針移動，當(dāng)指針移動至110mA時，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。當(dāng)高壓真空表“5”內(nèi)指針逆時針移動超過6.7Pa時，開工件旋轉(zhuǎn)鈕開關(guān)，鐘罩內(nèi)被鍍件PVDF膜轉(zhuǎn)動。
真空鍍膜機鍍前預(yù)處理和鍍后處理方法
鍍前預(yù)處理
鍍前預(yù)處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面，為后獲得鍍層作準(zhǔn)備，要進行脫脂、去銹蝕、去灰塵等工作。
步驟如下：
步：使表面粗糙度達到一定要求，可通過表面磨光、拋光等工藝方法來實現(xiàn)；
第二步：去油脫脂，可采用溶劑溶解以及化學(xué)、電化學(xué)等方法來實現(xiàn)；
第三步：除銹，可用機械、酸洗以及電化學(xué)方法除銹；
第四步：活化處理，一般在弱酸中侵蝕一定時間進行鍍前活化處理。
真空鍍膜技術(shù)所使用的原材料非常廣泛，主要有單質(zhì)元素、化合物、無機材料或有機材料等。真空鍍膜技術(shù)主要有氣相生成法、氧化法、擴散法、電鍍法、離子注入法等。其中，氣相生成法又可分為物理氣相沉積法（PVD）、化學(xué)氣相沉積法（CVD）和放電聚合法等。真空鍍膜技術(shù)只有通過真空鍍膜設(shè)備才能實現(xiàn)，根據(jù)真空鍍膜技術(shù)的不同，大致可分為PVD鍍膜設(shè)備、CVD鍍膜設(shè)備、磁控濺射鍍膜設(shè)備等。
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